- Doskonała stabilność i długi czas życia dzięki wykorzystaniu technologii światłowodowej
- Moc średnia do 60 W
- Maksymalna energia impulsu femtosekundowego do 200 µJ
- Regulacja czasu trwania impulsu w zakresie < 270 fs – 20 ps
- Doskonała jakość wiązki M2 < 1.2
- Możliwość generowania paczek impulsów (burst mode) o kształtowanej obwiedni Custom Envelope Burst dla zaawansowanej optymalizacji procesów obróbki
- Możliwość generowania aż do 80 impulsów w paczce
- Funkcja Advanced Pulse-on-Demand (APoD) zapewniająca niespotykaną precyzję wyzwalania impulsów (impuls na żądanie z opóźnieniem < 50 ns)
- 5 lat gwarancji na oscylator oraz 2 lata na cały laser w standardzie
Dzięki całkowicie światłowodowej konstrukcji bez użycia nasycalnego absorbera typu SESAM, Jasper X1 zapewnia długoterminową niezawodność, stabilną pracę i bezobsługową eksploatację 24/7. Solidna konstrukcja umożliwia instalację zarówno w orientacji poziomej, jak i pionowej, co sprawia, że system doskonale sprawdza się w integracji w maszynach i na liniach produkcyjnych.
| Model | JX30-100 | JX30-200 | JX30-200P | JX60-200 | JX60-200P |
| Centralna długość fali | 1030 ± 5 nm | ||||
| Maksymalna moc średnia | 30 W (1) | 60 W | |||
| Maksymalna energia impulsu | 100 µJ | 200 µJ | 200 µJ | ||
| Nominalna częstotliwość powtarzania impulsów | 300 kHz | 150 kHz | 300 kHz | ||
| Czas trwania impulsu | < 270 fs (2) | ||||
| Zakres strojenia | < 270 fs – 8 ps | < 270 fs – 20 ps | |||
| Zakres regulacji częstotliwości | Pojedynczy impuls – 20 MHz (3) | ||||
| Pulse-on-Demand Maksymalna częstotliwość / maksymalne opóźnienie |
Standard (w oparciu o pulse picker) |
Advanced (4) 1 MHz / < 50 ns |
Standard (w oparciu o pulse picker) |
Advanced (4) 1 MHz / < 50 ns |
|
| Maksymalna energia paczki impulsów (ang. „burst mode”) | 100 µJ (6) | 300 µJ (6) | 400 µJ (6) | ||
| Ilość impulsów w paczce (ang. „burst mode”) | 2 – 80 | 2 – 80 | 2 – 12 | 2 – 80 | 2 – 12 |
| Regulowana obwiednia paczki impulsów (CEB) (5) | Opcjonalnie | Zawarta | – | Zawarta | – |
| Jakość wiązki, M2 | < 1.2 (1.1 typowo) | ||||
| Kołowość wiązki | > 87% | ||||
| Dywergencja wiązki | < 1 mrad | ||||
| Średnica wiązki | 2.5 ± 0.5 mm (7) | ||||
| Polaryzacja | Liniowa, pionowa, PER > 28 dB | ||||
| Stabilność kierunku wiązki | < 20 µrad/°C | ||||
| Stabilność mocy długoterminowa, 100 h | < 0.5% (8) | ||||
| Stabilność energii impuls do impulsu, 24 h | < 1% (8) | ||||
| Wyzwalanie | Zewnętrzne / Wewnętrzne | ||||
| Kontrola impulsów | Wewnętrzna lub zewnętrzna analogowa modulacja mocy, pulse picker, tryb paczek impulsów (burst mode) wraz z kształtowaną obwiednią (Custom Envelope Burst – CEB). | ||||
| Opcje | Harmonic Module – 515 nm, 343 nm, 257 nm (automatyczna selekcja), mechaniczny shutter | ||||
| Czas rozgrzewania | < 30 min (od uruchomienia) | ||||
| Chłodzenie | Wodne | ||||
| Oprogramowanie do sterowania laserem | W zestawie | ||||
| Interfejs sterowania | GUI (USB) / SCPI (RS232) / TTL (BNC) / Analog (BNC) | ||||
| Wymiary głowicy lasera (L x W x H) | 1096 x 446 x 100 mm | ||||
| Waga głowicy lasera | 50 kg | ||||
| Wymiary zasilacza (L x W x H) | 3U 19” rack unit: 376 x 485 x 133 mm | ||||
| Waga zasilacza | 13 kg | ||||
| Opcje montażu | Pionowa / Pozioma | ||||
| Temperatura otoczenia podczas pracy | 15 – 30°C | ||||
| Wilgotność względna | 10 – 80% (bez kondensacji) | ||||
| Pobór mocy | < 620 W | ||||
| Przewód zasilająco-sterujący | 3 m, odłączany (dłuższy dostępny na życzenie) | ||||
| Zasilanie elektryczne | 100 – 240 V AC, Single Phase 50 – 60 Hz | ||||
Wszystkie parametry mogą zostać zmienione bez wcześniejszego powiadomienia w ramach ciągłego udoskonalania produktu.
1. Standardowo dostarczana moc to > 28 W. > 30 W dostępne na życzenie.
2. Typowy czas trwania impulsu < 240 fs.
3. Maksymalna częstotliwość powtarzania impulsów: 20,0 ± 0,5 MHz. Wybór impulsów do 2 MHz. W wersji Advanced Pulse-on-Demand impulsy mogą być wyzwalane zewnętrznie do 1,0 MHz w trybie Stabilized Energy Mode.
4. Limit częstotliwości powtarzania impulsów: 1000 ± 60 kHz. Zapewnia stałą energię impulsu (tryb Stabilized Energy Mode) przy zmiennym PRR do 1,0 MHz (doskonała jakość w obróbce narożników i zwiększona precyzja pozycjonowania impulsów na materiale). Stały odstęp impulsów w systemach mikroobróbki zapewniających zsynchronizowane pozycjonowanie wyjścia (PSO).
5. Ustawianie dowolnej obwiedni paczki oraz regulacja amplitudy pojedynczych impulsów w paczce.
6. Dostępny w trybie High Energy Burst (HEB) z PRR obniżonym poniżej nominalnego. HEB dostępny w wariancie JX30-100 na życzenie.
7. 1/e2, pomiar na odległości 1 m.
8. NRMSD przy stabilnych warunkach środowiskowych.
Jeśli potrzebujesz automatycznego wyboru długości fali, sprawdź: Harmonic Module.
Typowy profil wiązki
Energia impulsu vs. częstość repetycji
Moc lasera vs. częstość repetycji
Typowa stabilność mocy
Lata stabilnej pracy
Typowy profil czasowy
Stabilność energii impulsów
Jasper X1 to właściwy wybór wszędzie tam, gdzie potrzebna jest wysoka moc i duża energia impulsu przy jednoczesnym zachowaniu bardzo krótkiego czasu trwania impulsu. Do przykładowych zastosowań należą:
- Mikroelektronika – wiercenie otworów w szkle, krzemie, ceramice i podłożach organicznych, cięcie paneli, trasowanie, rozdzielanie szkła, znakowanie, naprawy, SLE, wewnętrzne zapisywanie w szkle
- Mikroobróbka – precyzyjne wiercenie, cięcie, przycinanie
- Produkcja urządzeń medycznych – stenty, mikrofiltry, mikroprzepływowość
- Inżynieria powierzchni – aktywacja przed galwanizacją/klejeniem/aplikacją, strukturyzacja form, funkcjonalizacja, kontrola zwilżalności
- Kompatybilność materiałowa – półprzewodniki, metale, ceramika, szkło, materiały twarde, materiały krystaliczne, polimery
